- 2018. október 11., 14:00
A gyártás, ha minden a tervek szerint alakul, jövőre indulhat. Az Intel pedig végleg leszakadhat.

A TSMC már most is 7 nm-es csíkszélességgel gyárt, ha a megrendelő igényli, de a tajvani vállalat hamarosan még egyet lép, és 5 nm-re vált. Elég nagy a kontraszt az Intellel szemben, amely egyelőre azzal küszködik, hogy 14-ről 10 nm-re tudjon végre átállni.

A TSMC viszont már azzal van elfoglalva, hogy a 7 nm-es csíkszélességnél átálljon a második generációs, EUV-t is alkalmazó eljárásra, amely előfeltétele a csíkszélesség további csökkentésének. A TSMC második generációs, 7 nm-es eljárása a jelenlegihez képest nagyobb tranzisztorsűrűség elérését teszi lehetővé, bevezetésének elsődleges célja pedig a gyártási költségek csökkentése mellett az, hogy kiderüljenek a technológia esetleges gyermekbetegségei.

Az EUV litográfiai eljárás gyakorlati alkalmazásában szerzett tapasztalat birtokában jövőre, a második negyedévben kerülhet sor arra, hogy az 5 nm-es csíkszélesség sorozatgyártásban is bevetésre kerüljön.

Címkék
Hozzászólások