A 7 nm-es csíkszélesség önmagában még nem annyira izgalmas, hiszen erre a TSMC is képes (lesz), azonban a Samsung egy új gyártási technológia segítségével, az un. EUV technológia segítségével gyártja majd a chipeket, ami jóval fejlettebb. Az EUV technológia olyan UV fényt (lézerfényt) használ a litográfiai eljárás során, amelynek hullámhossza extrém tartományba esik (13,5 nm-es). Az EUVL technológia egyéb trükkök (például közbenső réteg vagy többszörös minták alkalmazása) nélkül teszi lehetővé bonyolult struktúrák elkészítését, ami nemcsak kedvezőbb gyártási költségeket jelent, hanem azt is, hogy a tervezés során lerövidülhet az idő a generációváltások között.
Az új üzemet a tervek szerint 2019-ben fogják átadni, a termelés pedig 2020-ban indulhat be – ami azt jelenti, hogy az első olyan chipek, amelyek a Hwaseong melletti üzemből származnak jó eséllyel csak a 2020 második felében érkező telefonokban jelenhetnek meg. A 7 nm-es technológia a várakozások szerint az eddigieknél akár 10 százalékkal nagyobb teljesítményű, ugyanakkor harmadával kevesebb energiát fogyasztó chipek gyártását teszi majd lehetővé.
